Tungsten hexafluoride

CAS7783-82-6EC232-029-1

فئة الاستخدام

مادة كيميائية إلكترونية

الفئة الكيميائية

هالوكربون

الاستخدام الرئيسي

Tungsten chemical vapor deposition source

Tungsten hexafluoride is a tungsten compound primarily used as a source for tungsten deposition in chemical vapor deposition processes. It is significant in the electronics industry for forming tungsten interconnects within semiconductor devices.

Tungsten coating via chemical vapor depositionSource of tungsten metal for semiconductor interconnects

نطاق المحتوى: تتعلق المعلومات الواردة في هذه الصفحة بتحديد المواد الكيميائية وبسياقات التوريد الصناعي والبحث والإنتاج. وهي لا تشكّل ادعاءً علاجياً أو نصيحة طبية أو إرشادات لاستخدام الأدوية.

هل تشتري أو تورد هذا المركب؟

أضف مخزونك أو أنشر طلب شراء

CAS 7783-82-6

إدراج هذا المنتج

سجّل الدخول لنشر معلومات التوريد

طلب هذا المنتج

أرسل طلبًا دون تسجيل