C12H9F13O2
432.18 g/mol
مادة كيميائية إلكترونيةتحذير
Tridecafluorohexylethyl methacrylate
CAS2144-53-8EC218-407-9
فئة الاستخدام
مادة كيميائية إلكترونية
الفئة الكيميائية
إستر
الاستخدام الرئيسي
Photoresist component for semiconductor manufacturing
Tridecafluorohexylethyl methacrylate is a fluorinated methacrylate monomer used as a photoresist component in semiconductor manufacturing. Its highly fluorinated structure contributes to improved etch resistance and optical properties in photolithographic processes.
Photoresist component for semiconductor manufacturingPhotosensitizer for photoresists
نطاق المحتوى: تتعلق المعلومات الواردة في هذه الصفحة بتحديد المواد الكيميائية وبسياقات التوريد الصناعي والبحث والإنتاج. وهي لا تشكّل ادعاءً علاجياً أو نصيحة طبية أو إرشادات لاستخدام الأدوية.
هل تشتري أو تورد هذا المركب؟
أضف مخزونك أو أنشر طلب شراء
CAS 2144-53-8
المركبات ذات الصلة
مرجعنفس الفئة
3,6-Dibromo-9H-fluoren-9-one216312-73-1
CAS216312-73-1
OLED material intermediate
مرجعنفس الفئة
1-Chloronaphtho[2,3-b]benzofuran
CAS2170644-12-7
OLED intermediate
مرجعنفس الفئة
1-Bromo-7-chlorodibenzo[b,d]furan
CAS2173555-52-5
OLED material intermediate
مرجعنفس الفئة
(2-(2-Phenyl-9H-carbazol-9-yl)dibenzo[b,d]thiophen-4-yl)boronic acid
CAS2177306-79-3
OLED material intermediate
مرجع السلامة
تحذير
H315Causes skin irritation
H319Causes serious eye irritation
H335May cause respiratory irritation
H373May cause damage to organs through prolonged or repeated exposure
H410Very toxic to aquatic life with long lasting effects
المعرّفات
اسم IUPAC
3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-tridecafluorooctyl 2-methylprop-2-enoate
InChIKey
CDXFIRXEAJABAZ-UHFFFAOYSA-N
SMILES
CC(=C)C(=O)OCCC(C(C(C(C(C(F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F
الأسماء المرادفة (19)
- ACTYFLON G 06B
- CAPSTONE 62MA
- CHEMINOX FAMAC 6
- FAMAC 6
- FLUOWET MA 600