F6W
297.83 g/mol
电子化学品危险
Tungsten hexafluoride
六氟化钨
CAS7783-82-6EC232-029-1
用途分类
电子化学品
化合物类别
卤代烃
主要用途
钨化学气相沉积源
六氟化钨是一种用于化学气相沉积过程中沉积钨层的钨化合物。它在电子工业中用于形成半导体器件内的钨互连层。
通过化学气相沉积制备钨涂层半导体互连的钨金属源
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CAS 7783-82-6
相关化合物
安全参考
危险
H280Contains gas under pressure; may explode if heated
H301Toxic if swallowed
H311Toxic in contact with skin
H314Causes severe skin burns and eye damage
H318Causes serious eye damage
H330Fatal if inhaled
标识符
IUPAC 名称
hexafluorotungsten
InChIKey
NXHILIPIEUBEPD-UHFFFAOYSA-H
SMILES
F[W](F)(F)(F)(F)F
别名列表 (12)
- Hexafluorotungsten
- TUNGSTEN HEXAFLUORIDE (WF6)
- TUNGSTEN(6+) FLUORIDE
- Tungsten fluoride
- Tungsten fluoride (WF6)
- Tungsten hexafluoride
- Tungsten(6+) hexafluoride
- Tungsten(VI) fluoride
- WOLFRAM HEXAFLUORIDE