C6H2F8O4
290.06 g/mol
电子化学品警告
Octafluoroadipic acid
CAS336-08-3EC206-407-1
用途分类
电子化学品
化合物类别
有机酸
主要用途
光刻中的顶部抗反射涂层
八氟己二酸是一种氟化二羧酸，在半导体光刻中用作顶部抗反射涂层。其结构包含两个羧酸基团和八个氟原子，使其适用于电子化学品领域。
光刻中的顶部抗反射涂层半导体工业中的非聚合物PFAS
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CAS 336-08-3
相关化合物
安全参考
警告
H315Causes skin irritation
H319Causes serious eye irritation
H335May cause respiratory irritation
标识符
IUPAC 名称
2,2,3,3,4,4,5,5-octafluorohexanedioic acid
InChIKey
AXRSOGFYDSXLQX-UHFFFAOYSA-N
SMILES
C(=O)(C(C(C(C(C(=O)O)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)O
别名列表 (10)
- HPFLDCA n=4
- Hexanedioic acid, octafluoro-
- Octafluoroadipic acid
- Octafluorohexanedioic acid
- Perfluoroadipic acid
- Perfluorohexanedioic Acid
- diPFHxA