C3H9Al
72.09 g/mol
Produto químico eletrônicoPerigo
Trimethylaluminum
trimetilalumínio
CAS75-24-1EC200-853-0
Categoria
Produto químico eletrônico
Classe do Composto
Organometálico
Uso Principal
Semiconductor thin film growth precursor
Trimethylaluminum is an organoaluminum compound that exists as a dimer and is a colorless, pyrophoric liquid. It is primarily used as a precursor in semiconductor thin film growth processes.
Precursor for semiconductor thin film growthSource of aluminum in chemical vapor deposition
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CAS 75-24-1
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Referência de Segurança
Perigo
H250Catches fire spontaneously if exposed to air
H260In contact with water releases flammable gases which may ignite spontaneously
H314Causes severe skin burns and eye damage
H318Causes serious eye damage
Identificadores
Nome IUPAC
trimethylalumane
InChIKey
JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N
SMILES
C[Al](C)C
Sinônimos (23)
- Al(Me)3
- Aluminum trimethanide
- Aluminum, trimethyl-
- TRIMETHYLALUMINUM (AL(CH3)3)
- Trimethylalane
- Trimethylaluminum
- Trimethylaluminum, elec. gr.
- trimethyaluminium
- trimethyaluminum
- trimethyl aluminium
- trimethylaiuminium
- trimethylalumane
- trimethylalumimum
- trirnethylaluminium