C12H9F13O2
432.18 g/mol
Produto químico eletrônicoAtenção
Tridecafluorohexylethyl methacrylate
CAS2144-53-8EC218-407-9
Categoria
Produto químico eletrônico
Classe do Composto
Éster
Uso Principal
Photoresist component for semiconductor manufacturing
Tridecafluorohexylethyl methacrylate is a fluorinated methacrylate monomer used as a photoresist component in semiconductor manufacturing. Its highly fluorinated structure contributes to improved etch resistance and optical properties in photolithographic processes.
Photoresist component for semiconductor manufacturingPhotosensitizer for photoresists
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CAS 2144-53-8
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Referência de Segurança
Atenção
H315Causes skin irritation
H319Causes serious eye irritation
H335May cause respiratory irritation
H373May cause damage to organs through prolonged or repeated exposure
H410Very toxic to aquatic life with long lasting effects
Identificadores
Nome IUPAC
3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-tridecafluorooctyl 2-methylprop-2-enoate
InChIKey
CDXFIRXEAJABAZ-UHFFFAOYSA-N
SMILES
CC(=C)C(=O)OCCC(C(C(C(C(C(F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F
Sinônimos (19)
- ACTYFLON G 06B
- CAPSTONE 62MA
- CHEMINOX FAMAC 6
- FAMAC 6
- FLUOWET MA 600