C3H9Al
72.09 g/mol
전자 화학물질위험
Trimethylaluminum
CAS75-24-1EC200-853-0
용도 분류
전자 화학물질
화합물 분류
유기금속
주요 용도
Semiconductor thin film growth precursor
Trimethylaluminum is an organoaluminum compound that exists as a dimer and is a colorless, pyrophoric liquid. It is primarily used as a precursor in semiconductor thin film growth processes.
Precursor for semiconductor thin film growthSource of aluminum in chemical vapor deposition
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CAS 75-24-1
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안전 참조
위험
H250Catches fire spontaneously if exposed to air
H260In contact with water releases flammable gases which may ignite spontaneously
H314Causes severe skin burns and eye damage
H318Causes serious eye damage
식별자
IUPAC 이름
trimethylalumane
InChIKey
JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N
SMILES
C[Al](C)C
동의어 목록 (23)
- Al(Me)3
- Aluminum trimethanide
- Aluminum, trimethyl-
- TRIMETHYLALUMINUM (AL(CH3)3)
- Trimethylalane
- Trimethylaluminum
- Trimethylaluminum, elec. gr.
- trimethyaluminium
- trimethyaluminum
- trimethyl aluminium
- trimethylaiuminium
- trimethylalumane
- trimethylalumimum
- trirnethylaluminium