C12H9F13O2
432.18 g/mol
Producto químico electrónicoAtención
Tridecafluorohexylethyl methacrylate
CAS2144-53-8EC218-407-9
Categoría
Producto químico electrónico
Clase de Compuesto
Éster
Uso Principal
Photoresist component for semiconductor manufacturing
Tridecafluorohexylethyl methacrylate is a fluorinated methacrylate monomer used as a photoresist component in semiconductor manufacturing. Its highly fluorinated structure contributes to improved etch resistance and optical properties in photolithographic processes.
Photoresist component for semiconductor manufacturingPhotosensitizer for photoresists
Alcance del contenido: La información de esta página se refiere a la identificación química y a los contextos de suministro industrial, investigación y producción. No constituye una afirmación terapéutica, un consejo médico ni instrucciones de uso de medicamentos.
¿Adquiriendo o suministrando este compuesto?
Publique su inventario o una solicitud de compra
CAS 2144-53-8
Compuestos relacionados
ReferenciaMisma categoría
3,6-Dibromo-9H-fluoren-9-one216312-73-1
CAS216312-73-1
OLED material intermediate
ReferenciaMisma categoría
1-Chloronaphtho[2,3-b]benzofuran
CAS2170644-12-7
OLED intermediate
ReferenciaMisma categoría
1-Bromo-7-chlorodibenzo[b,d]furan
CAS2173555-52-5
OLED material intermediate
ReferenciaMisma categoría
(2-(2-Phenyl-9H-carbazol-9-yl)dibenzo[b,d]thiophen-4-yl)boronic acid
CAS2177306-79-3
OLED material intermediate
Referencia de Seguridad
Atención
H315Causes skin irritation
H319Causes serious eye irritation
H335May cause respiratory irritation
H373May cause damage to organs through prolonged or repeated exposure
H410Very toxic to aquatic life with long lasting effects
Identificadores
Nombre IUPAC
3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-tridecafluorooctyl 2-methylprop-2-enoate
InChIKey
CDXFIRXEAJABAZ-UHFFFAOYSA-N
SMILES
CC(=C)C(=O)OCCC(C(C(C(C(C(F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F
Sinónimos (19)
- ACTYFLON G 06B
- CAPSTONE 62MA
- CHEMINOX FAMAC 6
- FAMAC 6
- FLUOWET MA 600