C3H9Al
72.09 g/mol
ElektronikchemikalieGefahr
Trimethylaluminum
Trimethylaluminium
CAS75-24-1EC200-853-0
Kategorie
Elektronikchemikalie
Verbindungsklasse
Metallorganisch
Hauptverwendung
Semiconductor thin film growth precursor
Trimethylaluminum is an organoaluminum compound that exists as a dimer and is a colorless, pyrophoric liquid. It is primarily used as a precursor in semiconductor thin film growth processes.
Precursor for semiconductor thin film growthSource of aluminum in chemical vapor deposition
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CAS 75-24-1
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Sicherheitsreferenz
Gefahr
H250Catches fire spontaneously if exposed to air
H260In contact with water releases flammable gases which may ignite spontaneously
H314Causes severe skin burns and eye damage
H318Causes serious eye damage
Identifikatoren
IUPAC-Name
trimethylalumane
InChIKey
JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N
SMILES
C[Al](C)C
Synonyme (23)
- Al(Me)3
- Aluminum trimethanide
- Aluminum, trimethyl-
- TRIMETHYLALUMINUM (AL(CH3)3)
- Trimethylalane
- Trimethylaluminum
- Trimethylaluminum, elec. gr.
- trimethyaluminium
- trimethyaluminum
- trimethyl aluminium
- trimethylaiuminium
- trimethylalumane
- trimethylalumimum
- trirnethylaluminium