该化合物是一种含有四个四甲基庚二酮配体的锆配位络合物，用作薄膜沉积工艺中的挥发性金属前驱体。主要用于研究和实验室环境中的化学气相沉积或原子层沉积应用。
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tetrakis(2,2,6,6-tetramethylheptane-3,5-dione);zirconium(4+)
MOOILSXNGBFZKZ-UHFFFAOYSA-N
CC(C)(C)C(=O)[CH-]C(=O)C(C)(C)C.CC(C)(C)C(=O)[CH-]C(=O)C(C)(C)C.CC(C)(C)C(=O)[CH-]C(=O)C(C)(C)C.CC(C)(C)C(=O)[CH-]C(=O)C(C)(C)C.[Zr+4]
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