F6W
297.83 g/mol
Elektronik KimyasalTehlike
Tungsten hexafluoride
CAS7783-82-6EC232-029-1
Kategori
Elektronik Kimyasal
Bileşik Sınıfı
Halokarbon
Birincil Kullanım
Tungsten chemical vapor deposition source
Tungsten hexafluoride is a tungsten compound primarily used as a source for tungsten deposition in chemical vapor deposition processes. It is significant in the electronics industry for forming tungsten interconnects within semiconductor devices.
Tungsten coating via chemical vapor depositionSource of tungsten metal for semiconductor interconnects
İçerik kapsamı: Bu sayfadaki bilgiler kimyasal tanımlama ile endüstriyel tedarik, araştırma ve üretim bağlamlarına ilişkindir. Tedavi iddiası, tıbbi tavsiye veya ilaç kullanım talimatı niteliği taşımaz.
Bu bileşiği tedarik ediyor veya sağlıyor musunuz?
Envanterinizi listeleyin veya satın alma talebi gönderin
CAS 7783-82-6
İlgili Bileşikler
GüçlüAynı ana yapı
Tungsten(VI) chloride
CAS13283-01-7
Tungsten coatings and vapor deposition
ReferansAynı kategori
ARSINE
CAS7784-42-1
semiconductor manufacturing dopant
ReferansAynı kategori
CESIUM IODIDE
CAS7789-17-5
X-ray image intensifier phosphor
ReferansAynı kategori
LITHIUM FLUORIDE
CAS7789-24-4
Optical systems and X-ray spectroscopy
ReferansAynı kategori
SILANE
CAS7803-62-5
Silicon source for semiconductor deposition
Güvenlik Referansı
Tehlike
H280Contains gas under pressure; may explode if heated
H301Toxic if swallowed
H311Toxic in contact with skin
H314Causes severe skin burns and eye damage
H318Causes serious eye damage
H330Fatal if inhaled
Tanımlayıcılar
IUPAC Adı
hexafluorotungsten
InChIKey
NXHILIPIEUBEPD-UHFFFAOYSA-H
SMILES
F[W](F)(F)(F)(F)F
Eş Anlamlılar (12)
- Hexafluorotungsten
- TUNGSTEN HEXAFLUORIDE (WF6)
- TUNGSTEN(6+) FLUORIDE
- Tungsten fluoride
- Tungsten fluoride (WF6)
- Tungsten hexafluoride
- Tungsten(6+) hexafluoride
- Tungsten(VI) fluoride
- WOLFRAM HEXAFLUORIDE