C12H9F13O2
432.18 g/mol
Электронный химикатОсторожно
Tridecafluorohexylethyl methacrylate
CAS2144-53-8EC218-407-9
Категория
Электронный химикат
Класс Соединения
Эфир
Основное применение
Photoresist component for semiconductor manufacturing
Tridecafluorohexylethyl methacrylate is a fluorinated methacrylate monomer used as a photoresist component in semiconductor manufacturing. Its highly fluorinated structure contributes to improved etch resistance and optical properties in photolithographic processes.
Photoresist component for semiconductor manufacturingPhotosensitizer for photoresists
Область применения: Информация на этой странице относится к идентификации химических веществ и к контекстам промышленного снабжения, исследований и производства. Она не является терапевтическим заявлением, медицинской рекомендацией или инструкцией по применению лекарственных средств.
Закупаете или поставляете это соединение?
Разместите инвентарь или запрос на покупку
CAS 2144-53-8
Похожие соединения
СправочноТа же категория
3,6-Dibromo-9H-fluoren-9-one216312-73-1
CAS216312-73-1
OLED material intermediate
СправочноТа же категория
1-Chloronaphtho[2,3-b]benzofuran
CAS2170644-12-7
OLED intermediate
СправочноТа же категория
1-Bromo-7-chlorodibenzo[b,d]furan
CAS2173555-52-5
OLED material intermediate
СправочноТа же категория
(2-(2-Phenyl-9H-carbazol-9-yl)dibenzo[b,d]thiophen-4-yl)boronic acid
CAS2177306-79-3
OLED material intermediate
Справочник по безопасности
Осторожно
H315Causes skin irritation
H319Causes serious eye irritation
H335May cause respiratory irritation
H373May cause damage to organs through prolonged or repeated exposure
H410Very toxic to aquatic life with long lasting effects
Идентификаторы
Название IUPAC
3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-tridecafluorooctyl 2-methylprop-2-enoate
InChIKey
CDXFIRXEAJABAZ-UHFFFAOYSA-N
SMILES
CC(=C)C(=O)OCCC(C(C(C(C(C(F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F
Синонимы (19)
- ACTYFLON G 06B
- CAPSTONE 62MA
- CHEMINOX FAMAC 6
- FAMAC 6
- FLUOWET MA 600