F6W
297.83 g/mol
전자 화학물질위험
Tungsten hexafluoride
CAS7783-82-6EC232-029-1
용도 분류
전자 화학물질
화합물 분류
할로카본
주요 용도
Tungsten chemical vapor deposition source
Tungsten hexafluoride is a tungsten compound primarily used as a source for tungsten deposition in chemical vapor deposition processes. It is significant in the electronics industry for forming tungsten interconnects within semiconductor devices.
Tungsten coating via chemical vapor depositionSource of tungsten metal for semiconductor interconnects
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CAS 7783-82-6
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안전 참조
위험
H280Contains gas under pressure; may explode if heated
H301Toxic if swallowed
H311Toxic in contact with skin
H314Causes severe skin burns and eye damage
H318Causes serious eye damage
H330Fatal if inhaled
식별자
IUPAC 이름
hexafluorotungsten
InChIKey
NXHILIPIEUBEPD-UHFFFAOYSA-H
SMILES
F[W](F)(F)(F)(F)F
동의어 목록 (12)
- Hexafluorotungsten
- TUNGSTEN HEXAFLUORIDE (WF6)
- TUNGSTEN(6+) FLUORIDE
- Tungsten fluoride
- Tungsten fluoride (WF6)
- Tungsten hexafluoride
- Tungsten(6+) hexafluoride
- Tungsten(VI) fluoride
- WOLFRAM HEXAFLUORIDE