C12H9F13O2
432.18 g/mol
전자 화학물질경고
Tridecafluorohexylethyl methacrylate
CAS2144-53-8EC218-407-9
용도 분류
전자 화학물질
화합물 분류
에스터
주요 용도
Photoresist component for semiconductor manufacturing
Tridecafluorohexylethyl methacrylate is a fluorinated methacrylate monomer used as a photoresist component in semiconductor manufacturing. Its highly fluorinated structure contributes to improved etch resistance and optical properties in photolithographic processes.
Photoresist component for semiconductor manufacturingPhotosensitizer for photoresists
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CAS 2144-53-8
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안전 참조
경고
H315Causes skin irritation
H319Causes serious eye irritation
H335May cause respiratory irritation
H373May cause damage to organs through prolonged or repeated exposure
H410Very toxic to aquatic life with long lasting effects
식별자
IUPAC 이름
3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-tridecafluorooctyl 2-methylprop-2-enoate
InChIKey
CDXFIRXEAJABAZ-UHFFFAOYSA-N
SMILES
CC(=C)C(=O)OCCC(C(C(C(C(C(F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F
동의어 목록 (19)
- ACTYFLON G 06B
- CAPSTONE 62MA
- CHEMINOX FAMAC 6
- FAMAC 6
- FLUOWET MA 600