N-ヒドロキシナフタルイミドトリフラートは、半導体製造におけるフォトレジスト用の光酸発生剤です。非ポリマーPFAS化合物であり、光照射により酸を発生し、フォトレジスト層にパターンを形成します。
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IRIDIUM-BIS[5-FLUORO-2-(5-METHYL-2-PYRIDINYL-KappaN)PHENYL-KappaC](1,10-PHENANTHROLINE-KappaN1,KappaN10)-(OC-6-13)-HEXAFLUOROPHOSPHATE
OLED向けリン光性イリジウム錯体
3-(4,4,5,5-Tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl)carbazole
OLED材料中間体
N-phenyl-2-Dibenzofuranamine
電子化学品中間体
1,6-dibromo-3,8-diisopropylpyrene
電子化学中間体
Perfluorobutyl 1,3-dioxo-1H-benzo[de]isoquinoline-2(3H)-sulfonate
スルホン酸エステル試薬
2-butyl-6-(butylamino)-1H-benzo[de]isoquinoline-1,3(2H)-dione
プラスチックおよびインク用溶剤染料
Tetrakis((2S)-2-(1,3-dioxobenzo[de]isoquinolin-2-yl)-3,3-dimethylbutanoate);bis(rhodium(2+))
研究用試薬
Amonafide
医薬原料
電子樹脂とは何か:チップ、基板、プリント基板の中の高分子材料
「電子樹脂」は一つの材料ではありません。エポキシ封止材、積層板用樹脂、ビルドアップフィルム、フォトレジストといった電子グレードの高分子の総称であり、組成そのものよりも、満たすべき電気・熱・寸法の数値によって定義されます。
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続きを読む(1,3-dioxobenzo[de]isoquinolin-2-yl) trifluoromethanesulfonate
LWHOMMCIJIJIGV-UHFFFAOYSA-N
C1=CC2=C3C(=C1)C(=O)N(C(=O)C3=CC=C2)OS(=O)(=O)C(F)(F)F
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