Tridecafluorohexylethyl methacrylate

CAS2144-53-8EC218-407-9

用途カテゴリー

電子化学品

化合物分類

エステル

主な用途

半導体製造用フォトレジスト成分

トリデカフルオロヘキシルエチルメタクリレートは、半導体製造におけるフォトレジスト成分として使用されるフッ素化メタクリレートモノマーです。その高度にフッ素化された構造は、フォトリソグラフィープロセスにおけるエッチング耐性と光学特性の向上に貢献します。

半導体製造用フォトレジスト成分フォトレジスト用光増感剤

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CAS 2144-53-8

安全参照

有害

健康有害性

環境有害性

警告

H315Causes skin irritation

H319Causes serious eye irritation

H335May cause respiratory irritation

H373May cause damage to organs through prolonged or repeated exposure

H410Very toxic to aquatic life with long lasting effects

識別子

IUPAC名

3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-tridecafluorooctyl 2-methylprop-2-enoate

InChIKey

CDXFIRXEAJABAZ-UHFFFAOYSA-N

SMILES

CC(=C)C(=O)OCCC(C(C(C(C(C(F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F

別名一覧 (19)