四フッ化キセノン
四フッ化キセノンは化学化合物であり、最初に発見された希ガスの二元化合物です。キセノンとフッ素の直接反応によって生成され、主に希ガス化学の研究試薬として使用されます。
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CAS 13709-61-0
tetrafluoroxenon
RPSSQXXJRBEGEE-UHFFFAOYSA-N
F[Xe](F)(F)F