C12H9F13O2
432.18 g/mol
Produit chimique électroniqueAttention
Tridecafluorohexylethyl methacrylate
CAS2144-53-8EC218-407-9
Catégorie
Produit chimique électronique
Classe du Composé
Ester
Utilisation principale
Photoresist component for semiconductor manufacturing
Tridecafluorohexylethyl methacrylate is a fluorinated methacrylate monomer used as a photoresist component in semiconductor manufacturing. Its highly fluorinated structure contributes to improved etch resistance and optical properties in photolithographic processes.
Photoresist component for semiconductor manufacturingPhotosensitizer for photoresists
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CAS 2144-53-8
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Référence Sécurité
Attention
H315Causes skin irritation
H319Causes serious eye irritation
H335May cause respiratory irritation
H373May cause damage to organs through prolonged or repeated exposure
H410Very toxic to aquatic life with long lasting effects
Identifiants
Nom IUPAC
3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-tridecafluorooctyl 2-methylprop-2-enoate
InChIKey
CDXFIRXEAJABAZ-UHFFFAOYSA-N
SMILES
CC(=C)C(=O)OCCC(C(C(C(C(C(F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F
Synonymes (19)
- ACTYFLON G 06B
- CAPSTONE 62MA
- CHEMINOX FAMAC 6
- FAMAC 6
- FLUOWET MA 600